集成的光信號(hào)想要實(shí)現(xiàn)多種功能，都離不開(kāi)基本光學(xué)元件的小型化，例如波導(dǎo)、分路器、光柵和光開(kāi)關(guān)。這也意味著需要一種能實(shí)現(xiàn)高分辨率制造的方法。
目前已存在幾種用于亞波長(zhǎng)高分辨率制造的技術(shù)，例如直接激光寫(xiě)入、多光子光刻、電子束光刻、離子束光刻和多米諾骨牌光刻，然而，這些技術(shù)均成本高昂、復(fù)雜且耗時(shí)。納米壓印光刻雖然非常適合高分辨率與高效制，但是它同時(shí)也需要高質(zhì)量的“母機(jī)”。
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